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1.本科及以上学历,微电子、材料、化学工程等相关专业; 2.3年以上半导体光刻制程经验,主导过光刻工艺改进或设备导入项目; 3.精通光刻工艺核心参数(NA数值孔径、DOF焦深、OVL套刻精度)对良率的...
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